1. 薄膜质量高◦ 高致密性：高能溅射原子沉积的薄膜密度 > 98% 理论值，针孔率 < 0.1 个 /cm²，抗腐蚀性能提升 30%。这种高致密性的薄膜结构能够有效阻挡外界物质的侵入，提高半导体器件的稳定性和可靠性。◦ 纳米级精度：通过石英晶振实时监测沉积速率，精度达 ±0.3nm/s；基片台支…
日期：2025-07-31
磁控溅射镀膜技术属于物理气相沉积（PVD）的一种。在真空环境下，向腔室内通入惰性气体（如氩气），在电场作用下，氩气被电离产生等离子体。此时，在靶材表面施加磁场，与电场形成正交电磁场。氩离子在电场加速下高速轰击靶材表面，靶材原子或分子在离子的撞击下获得足够能量，脱离…
日期：2025-04-20
磁控溅射镀膜机(高真空磁控溅射仪）是用磁控溅射的方法，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。高真空磁控溅射仪（科研型）Circular Sputter系列是我司科研类高真空…
日期：2025-04-20
深圳微仪真空技术公司磁控溅射镀膜技术，10年专注真空镀膜技术，磁控溅射镀膜生产厂家微仪磁控溅射镀膜技术作为一种高效的物理气相沉积（PVD）方法，已广泛应用于微电子、光学薄膜、装饰和防护涂层等领域。与传统溅射技术相比，磁控溅射通过引入磁场，显著提高了溅射效率和膜层质量…
日期：2025-04-20
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