真空蒸镀设备的两大核心组成部分

1. 真空系统

真空系统是真空蒸镀设备的基础部分，主要包括真空泵、真空室、阀门、传感器等组件。它的主要作用是提供并维持一个低气压的环境，确保蒸镀过程中材料的蒸发和沉积不会受到空气的干扰。

2. 蒸镀源系统

蒸镀源系统是真空蒸镀设备的核心部分，它包括蒸发源、沉积源、加热器、控制电路等。蒸镀源系统的任务是将待镀材料蒸发或溅射到基底上，形成均匀的薄膜。

具体组成细节如下：

真空系统：

1. 真空泵：用于抽除真空室内的空气和其他气体，达到所需的真空度。
2. 真空室：是蒸镀过程的主要空间，材料在其中被蒸发和沉积。
3. 阀门：控制气体的流入和流出，以及真空室内压力的调节。
4. 传感器：监测真空室内的压力、温度等参数，确保蒸镀过程的稳定进行。

蒸镀源系统：

1. 蒸发源：可以是电阻加热蒸发源、电子束蒸发源等，用于加热材料使其蒸发。
2. 沉积源：用于将蒸发后的材料沉积到基底上，形成薄膜。
3. 加热器：为蒸发源和沉积源提供必要的温度。
4. 控制电路：通过调节电流、电压等参数，精确控制蒸镀过程。