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反应离子刻蚀机

RIE-8101型反应离子刻蚀机

RIE-8101型反应离子刻蚀机产品详情氯基专用刻蚀设备,刻蚀速率控制方便,耐氯基强腐蚀气体,带双片送取样室(Load-Lock)应用方向: 科研与教学产品优势: 刻蚀速率控制方便,耐氨基强腐蚀气体,带双片送取样室(Load-Lock)产品配置:★样片数量及尺寸: 1片Ф6英寸★刻蚀材料: 包括并不限于单晶硅、多晶硅、Si02、Si3N4、Ti、W、聚

RIE-8101型反应离子刻蚀机


产品详情

氯基专用刻蚀设备,刻蚀速率控制方便,耐氯基强腐蚀气体,带双片送取样室(Load-Lock)

应用方向: 科研与教学

产品优势: 刻蚀速率控制方便,耐氨基强腐蚀气体,带双片送取样室(Load-Lock)


产品配置:

★样片数量及尺寸: 1片Ф6英寸

★刻蚀材料: 包括并不限于单晶硅、多晶硅、Si02、Si3N4、Ti、W、聚合物等★刻蚀腔体:高真空系统

Load-Lock: 低真空系统 或高真空系统。双片装,样品自动运送,★刻蚀不均匀性:+3%-+6%

★刻蚀速率: 0.1-4um/min(视具体材料与工艺)

★工作台: 可升降,包含水冷

★电源配置: 下电极偏压,包含自动匹配

★气路数量与种类: 6路气路,其中2路耐氨气腐蚀VCR焊接 或用户选配

★He冷首吹系统: 可选配

★终点检测控制: 可选配质谱仪

★操作模式: 全自动+半自动控制


设备详细结构与功能,请咨询销售工程师。


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