RIE-8101型反应离子刻蚀机
产品详情
氯基专用刻蚀设备,刻蚀速率控制方便,耐氯基强腐蚀气体,带双片送取样室(Load-Lock)
应用方向: 科研与教学
产品优势: 刻蚀速率控制方便,耐氨基强腐蚀气体,带双片送取样室(Load-Lock)
产品配置:
★样片数量及尺寸: 1片Ф6英寸
★刻蚀材料: 包括并不限于单晶硅、多晶硅、Si02、Si3N4、Ti、W、聚合物等★刻蚀腔体:高真空系统
★Load-Lock: 低真空系统 或高真空系统。双片装,样品自动运送,★刻蚀不均匀性:+3%-+6%
★刻蚀速率: 0.1-4um/min(视具体材料与工艺)
★工作台: 可升降,包含水冷
★电源配置: 下电极偏压,包含自动匹配
★气路数量与种类: 6路气路,其中2路耐氨气腐蚀VCR焊接 或用户选配
★He冷首吹系统: 可选配
★终点检测控制: 可选配质谱仪
★操作模式: 全自动+半自动控制
设备详细结构与功能,请咨询销售工程师。