VI-900M 桌面型磁控溅射镀膜仪

VI-900M 桌面型磁控溅射镀膜仪主要适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。制作过程中，凭借磁控溅射工艺，保障电极的质量与性能，可对扫描电子显微镜待观测样品进行镀膜操作。

设备用途：

适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。

设备概述：

属于低真空磁控溅射仪，依托磁控溅射技术，在材料表面处理领域发挥重要作用。

应用场景：

电极制作：主要应用于各类电极的制作过程，凭借磁控溅射工艺，保障电极的质量与性能。

扫描电镜样品镀膜：可对扫描电子显微镜待观测样品进行镀膜操作。特别适用于不耐高温（150℃以下）样品的镀膜处理，同时对常规样品镀膜同样适用。

溅射材料范围：溅射材料范围限定于金、银、铂。其中，镀金速率可达 40nm/min。

设备性能：

VI-900M 在镀膜过程中具备显著优势。其产生的热量极小，能够有效避免因过热对样品造成损伤。

此外，VI-900M 可使膜层更加均匀，显著提升镀膜质量；且镀膜速率更快，极大提高了工作效率。

设备参数：