VI-900 桌面型离子溅射镀膜仪

VI-900 桌面型离子溅射镀膜仪

设备介绍：

VI-900 桌面型磁控溅射镀膜仪为我司针对大学、研究院所、企业研发机构等用户的科研及教学需求定向开发的镀膜设备。

设备支持靶溅射及直靶溅射两种模式，适用于多种工艺模式，可用来进行单层膜、多层膜、混合膜的制备以及膜层掺杂。

设备用途：

适用于电镜实验室的扫描电子显微镜（SEM）样品制备，非导体材料实验电极制作。

设备特点：

VI - 900 为低真空普通型二极离子溅射仪，主要应用于扫描电子显微镜待观察样品的镀膜处理。需注意，该设备适用于耐受 150℃以上高温的样品。

VI - 900 可用于电极制作，其镀金速率约为 8nm/min。

仅支持金、银、铂等金属的溅射操作。

设备参数