VI-ST50 台式磁控溅射仪是一款小型台式溅射功率可控磁控溅射仪，仪器虽小功能齐全，配备有电压电流反馈,样品台旋转，样品高度调节，及电动挡板功能。
通过定时调节预溅射功率及薄膜沉积功率，可对大部分金属进行均匀物理沉积，真空腔室为透明高硼玻璃减少样品污染。
样品台可旋转以获得更均匀的薄膜，可制备各种金属薄膜。
设备参数：
项目 | 规格 |
控制方式 | 7 寸人机界面 手动、自动模式切换控制 |
溅射电源 | 直流溅射电源 |
镀膜功能 | 0-999 秒 5 段可变换功率及挡板位和样品速度程序 |
最大功率 | ≤1000W |
最大输出电压电流 | 电压≤1000V 电流≤500mA |
真空度 | 机械泵 ≤5Pa（5 分钟） 分子泵≤5*10^-3Pa |
溅射真空 | ≤10Pa |
挡板类型 | 电控 |
真空腔室 | 高硼玻璃+不锈钢腔体φ160mm x 170mm |
样品台 | 可旋转φ75 （最大可安装φ70 基底） |
样品台转速 | 8 转/分钟 |
样品溅射源调节距离 | 40-105mm |
真空测量 | 皮拉尼真空计（已安装 测量范围 10E5Pa 1E-1Pa） |
预留真空接口 | KF25 抽气口 KF16 放气口 6mm 卡套进气口 |
水冷接口 | 6mm 快插 |
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