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VI-800C 热蒸发碳膜仪
VI-800C 热蒸发碳膜仪

VI-800C 热蒸发碳膜仪

VI-800C 热蒸发碳膜仪通常应用于扫描电镜的样品制备,减少因电子束在样品表面的积聚而产生的荷电效应,使得形貌观察更容易,提高成像质量。通常应用于扫描电镜的样品制备,减少因电子束在样品表面的积聚而产生的荷电效应,使得形貌观察更容易,提高成像质量。通常应用于扫描电镜的样品制备,减少因电子束在样品表面的积聚而产生的荷电效应,使得形貌观察更容易,提高成像质量。

设备用途:

专为实验室SEM样品制备和材料科学沉淀碳涂层而专门设计的标准型仪器。

该碳涂层机在样品表面沉淀一层导电碳膜。将这种涂层沉淀技术应用于非导电样品上是一种有效的样品制备技术,

可以减少在扫描电镜中分析的带电电子伪影并在能谱分析的时候有更加精准的数据分析结果。


设备概述:

低真空喷碳仪,一般用于能谱分析用。

蒸发源是碳纤维绳,通过对碳纤维绳加热使其蒸发气化而沉积与基体或工件表面并形成薄膜或涂层的工艺。

低真空条件下碳纤维绳相较于碳棒颗粒更小,更均匀,操作更方便。


设备性能:

可调节溅射电流和真空室压强以控制镀膜的速率和颗粒的大小

可更换不同的靶材(金、铂、铱、银、铜等),以达到更细颗粒的涂层。 

通过通入不同的惰性气体以达到更纯净的涂层

独立的溅射、蒸发上盖和玻璃腔体防止交叉污染

碳纤维绳更加细腻均匀、快速,更有利于分析材料结构


设备参数:

主机340mm×390mm×300mm(W×D×H)
真空规皮拉尼真空计
蒸发材料碳纤维(标配一米), 双丝可 A\B 分别选择
样品室尺寸160mm×110mm(D×H),硼硅酸盐玻璃
样品台尺寸φ70mm
溅射面积Φ50mm
真空度≤4×10-2mba
最大电流100A
定时器时间1S
最高电压30V
电源220V AC,50Hz 接地三脚插头
机械泵2L/S


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