RIE-601型反应离子刻蚀机

设备简介：

RIE-601反应离子刻蚀机为我司针对大学、研究院所、企业研发机构等用户的科研及教学需求定点开发的刻蚀设备，同时设备也支持小批量产品生产。

设备配备一台射频偏压电源，置于下电极，包含自动匹配器。射频偏压电源将工艺气体离化成等离子态，并使等离子体向下刻蚀样片。

设备上盖配有喷淋式匀气装置，将工艺气体均匀注入到腔体中。

设备技术参数：

真空室尺寸：Φ370mm×H300mm

整机尺寸：L1300mm×W900mm×H1500mm

整机重量：650Kg

样片大小及数量：φ6英寸样片1片或散片多片

极限真空度：≤2×10-4Pa

系统漏率：≤5×10-7Pa·L/s

静态升压：系统停泵关机12小时后，真空度≤5Pa

抽气速率：系统充干燥N2解除真空，短时暴露大气后抽气至5×10-3Pa≤15min

                 系统充干燥N2解除真空，短时暴露大气后抽气至9×10-4Pa≤30min

刻蚀不均匀性：≤±5％（φ6英寸范围内）