RIE-801型反应离子刻蚀机
RIE-801反应离子刻蚀机为我司针对大学、研究院所、企业研发机构等用户的科研及教学需求定点开发的刻蚀设备，同时设备也支持小批量产品生产。 设备支持最大φ8英寸样片的反应离子刻蚀。
设备简介：
RIE-801反应离子刻蚀机为我司针对大学、研究院所、企业研发机构等用户的科研及教学需求定点开发的刻蚀设备，同时设备也支持小批量产品生产。
设备支持最大φ8英寸样片的反应离子刻蚀。
刻蚀材料: 包括并不限于单晶硅、多晶硅、Si02、Si3N4、T、W、聚合物等。
★刻蚀腔体: 高真空系统
★刻蚀不均勾性:+3%-+6%
★刻蚀速率:0.1-4um/min(视具体材料与工艺)★工作台:可升降，包含水冷
★电源配置:下电极偏压，包含自动匹配
★气路数量与种类:4路耐氟基腐蚀气路 或 用户选配
★He冷背吹系统:可选配
★终点检测控制:可选配质谱仪
★操作模式:全自动+半自动控制
客服1