磁光相变盘通过激光加热使相变材料（如 GST）在 “晶态 / 非晶态” 间转换记录数据，依靠磁光层磁光效应读取数据。这对薄膜结构要求严苛：• 需包含相变层（记录）、磁光层（读取）、介质层（隔热保护）、反射层（增强信号）等多层薄膜；• 每层厚度需精准控制（10-100nm），层间无…
日期：2025-07-31
3nm 制程芯片内部堆叠着数百层原子级薄膜，这些薄膜直接决定芯片性能与寿命，而磁控溅射镀膜仪正是打造这类薄膜的核心设备。本文将从 “技术优势 - 未来趋势 - 挑战应对” 三大维度，有条理解析其在半导体领域的价值与发展路径。磁控溅射镀膜仪能成为半导体制造刚需，核心源于四大技…
日期：2025-07-31
磁控溅射技术作为一种高精度薄膜制备手段，凭借其薄膜成分可控、均匀性优异、附着力强及可在复杂基体表面镀膜等特性，在生命科学领域的应用正逐步拓展，尤其在生物医用材料改性、生物传感器制备、组织工程等方向展现出独特价值。磁控溅射是利用磁场约束等离子体中的电子，增强其与工…
日期：2025-04-20
超导材料以其零电阻、完全抗磁性等独特特性，在能源、医疗、交通等领域展现出革命性应用潜力。从核磁共振成像（MRI）设备到超导量子计算机，从磁悬浮列车到可控核聚变装置，超导材料的性能与制备工艺直接决定了这些尖端技术的商业化进程。在众多超导材料制备方法中，磁控溅射技术凭…
日期：2025-04-20
磁控溅射技术凭借薄膜成分可控、均匀性优异、附着力强等特性，已成为微电子与纳米技术领域的核心制备手段，支撑着芯片制造、纳米器件等前沿领域的创新突破。在集成电路制造中，磁控溅射承担着金属化与绝缘层制备的核心角色： · 高精度金属布线：通过溅射 Al-Cu、Cu 等合金薄膜，形成…
日期：2025-04-20
1. 物理气相沉积（PVD）技术原理：PVD技术通过物理手段将银源（如银靶）蒸发或溅射成银原子或分子，并在基材表面凝聚成膜。主要方法包括磁控溅射、电子束蒸发等。优点：形成的薄膜纯度高、致密性好，适于高精度应用；可通过调整工艺参数精确控制薄膜厚度和成分。缺点：设备投资大，…
日期：2025-04-20
原理：一、什么是光？光是一种电磁波可见光波长范围760~400nm
日期：2025-04-20
在太阳能光伏行业追求高效率、低成本的发展进程中，磁控溅射技术以其精准的薄膜控制能力，成为光伏电池性能突破的关键支撑技术，广泛应用于各类高效电池的核心层制备。透明导电氧化物（TCO）薄膜是光伏电池收集光生载流子的关键组件，磁控溅射技术在此领域展现出不可替代的优势： ·…
日期：2025-04-20
我们每天产生的照片、文档、工业数据，都需要可靠的存储介质 “保管”—— 小到手机里的 128GB 闪存，大到数据中心的 PB 级硬盘阵列，背后都藏着一项关键技术：磁控溅射。它像一位 “隐形薄膜工程师”，通过在存储介质表面制备超薄功能薄膜，决定了存储设备的容量、速度与寿命。今天…
日期：2025-04-20
一枚指甲盖大小的半导体芯片，藏着数十层甚至上百层纳米级薄膜。而打造这些 “超薄薄膜” 的关键设备，正是磁控溅射镀膜仪。它像 “隐形筑膜师”，在半导体制造核心环节发力，决定芯片性能与稳定性。今天带大家看懂这台设备为何是半导体 “刚需利器”。半导体芯片的晶体管连接、绝缘…
日期：2025-04-20
磁控溅射镀膜机(高真空磁控溅射仪）是用磁控溅射的方法，制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等；适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系及合金膜；可镀制磁性材料和非磁性材料。高真空磁控溅射仪（科研型）Circular Sputter系列是我司科研类高真空…
日期：2025-04-20
深圳微仪真空技术公司磁控溅射镀膜技术，10年专注真空镀膜技术，磁控溅射镀膜生产厂家微仪磁控溅射镀膜技术作为一种高效的物理气相沉积（PVD）方法，已广泛应用于微电子、光学薄膜、装饰和防护涂层等领域。与传统溅射技术相比，磁控溅射通过引入磁场，显著提高了溅射效率和膜层质量…
日期：2025-04-20
客服1