高真空系统中的颗粒密度在高真空环境中，通常可以达到10^-6到10^-8 mbar的压力。为了理解这些条件下的颗粒数，我们可以考虑理想气体的摩尔体积。在1 cm³的体积中，通常情况下（如在大气压下），存在约2.7 × 10^19个气体颗粒。 颗粒密度计算大气压下： 1 cm³体积中约有2.7 × 10^19个…
日期：2025-04-20靶材中毒指的是靶材发生了反应，成分发生了变化。例如，在TiN的沉积过程中，钛靶与氮气反应生成TiN。过程完成后，钛靶的表面会形成一层TiN，这种现象被称为靶材中毒。 靶材中毒的表现靶电压异常：靶材的电压长时间无法达到正常值，处于低电压状态，并伴随有电弧放电。通常，磁控溅…
日期：2025-04-20射频溅射是一种在1960年代开始发展的技术，用于在各种材料上制作薄膜，包括导体和绝缘体。到了1970年代，这种技术逐渐流行。直流溅射是使用金属和半导体靶材的有效方法，但当靶材是绝缘体时，轰击靶材的离子会使其带电，导致靶材电位上升，进而阻止离子继续撞击。 “射频”指的是无…
日期：2025-04-20在真空处理机器和科学仪器中，腔室通常由不锈钢制成。这是因为不锈钢具有许多优点，使其特别适合这些环境。 不锈钢的优势： 1. 耐腐蚀性：不锈钢含有铬，能在表面形成保护性的钝化层，防止氧化和生锈。2. 高温耐受性：在高温下也能保持稳定性，适合热处理和清洁操作。3. 焊接和加工…
日期：2025-04-20真空加工需要在特定的无空气环境中进行，这要求使用复杂且昂贵的设备。为什么会有这种需求呢？主要有两个原因。 1. 空气的成分 空气主要由氮气（约78%）、氧气（约21%）和氩气（约1%）组成。其中，氩气是一种惰性气体，不会自发反应，常用于焊接等工艺中提供保护气氛。而氮气和氧气…
日期：2025-04-20铝合金电化学抛光铝合金的电化学抛光又称电解抛光，其原理与化学抛光相似，都是通过选择性溶解铝材表面微小凸出部分从而使铝材表面变得平整光滑。铝材作为阳极浸入到配制好的电解溶液中，以耐腐蚀而且导电性能良好的材料作为阴极，根据电化学尖端放电,原理，通电后铝材表面微小凸出…
日期：2025-04-20真空镀膜技术，简称 PVD，是在真空条件下，运用物理方法使材料源表面气化成原子、分子或离子，进而在基体表面沉积具有特殊功能薄膜的技术。真空镀膜设备的镀膜技术主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。其中，蒸发镀膜技术又细分为三种，即电阻蒸发、电子束蒸发和感应加热蒸发。一、…
日期：2025-04-20在制备电子器件过程中，我们常常会涉及到镀膜的问题，我们可以使用设备进行镀膜操作，比如：离子溅射。离子溅射仪的镀膜的主要方式有两种：热蒸发和离子溅射（包括直流溅射和磁控溅射）。热蒸发是通过对镀膜材料加热使其蒸发气化而沉积到样品表面并形成膜。离子溅射是将靶材、样品…
日期：2025-04-20溅射镀膜的优点1、任何物质均可以溅射，尤其是高熔点、低蒸气压元素和化合物。不论是金属、半导体、绝缘体、化合物和混合物等，只要是固体，不论是块状、粒状的物质都可以作为靶材。由于溅射氧化物等绝缘材料和合金时，几乎不发生分解和分馏，所以可用于制备与靶材料组分相近的薄膜…
日期：2025-04-20真空镀膜是一种在真空环境下，通过物理或化学方法将材料沉积到基底表面形成薄膜的技术。这种薄膜可以赋予基底许多新的特性，比如提高硬度、增强耐磨性、改善光学性能、赋予装饰性外观等，被广泛应用于众多领域。分类物理气相沉积（PVD）：真空蒸发镀膜：把待镀材料置于真空室内，通…
日期：2025-04-20真空镀膜设备镀膜技术大方向来分有三种，蒸发镀膜技术，离子镀膜技术，磁控溅射镀膜设备，每种镀膜技术都有各自的优缺点，镀制不同的基材，不同的靶材，选择的镀膜技术是不相同的。 蒸镀 溅镀 离子镀粒子…
日期：2025-04-20一、技术原理的差异磁控镀膜，又称为磁控溅射镀膜，是利用磁场来控制溅射出的金属粒子，使其更均匀地沉积在基材表面，形成一层致密的薄膜。这种技术通过优化磁场分布，提高了镀膜的均匀性和附着力。离子镀膜则是通过离子束技术，在真空环境下将材料离子化，然后加速喷射到基材表面…
日期：2025-04-20在材料科学的研究领域中，材料的表面性质常常决定了其在众多实际应用中的性能表现。从电子器件的微观制造到医疗器械的生物相容性优化，从航空航天部件的耐腐蚀性提升到汽车零部件的耐磨处理，离子溅射仪作为一种关键的实验设备，正发挥着不可或缺的作用，助力科研人员突破材料表面…
日期：2025-04-20离子溅射仪的冷却系统设计用于保护敏感部件和样品免受高温损伤，特别是在高功率溅射或处理热敏感材料时。这一系统通常包括以下工作原理：水冷系统：在一些高端或需要大量散热的离子溅射仪中，采用循环水冷系统。水冷通过管道直接接触或环绕关键发热部件（如靶材或电子枪），利用水…
日期：2025-04-20离子溅射仪的隔热设计通常会采用高性能的绝热材料，以确保设备内部温度控制和保护外部结构不受高温影响。虽然具体使用的绝热材料在不同的设备和制造商之间可能有所差异，但以下是一些常见的绝热材料类型：陶瓷纤维：具有极高的耐温性，良好的化学稳定性，适用于高温环境下的隔热，…
日期：2025-04-20离子溅射仪（Ion Sputtering System）作为一种高精度的表面处理设备，广泛应用于材料科学、薄膜沉积、半导体制造等多个领域。通过离子束的轰击，溅射出目标材料的原子或分子，离子溅射不仅能够进行表面改性，还可以用于分析与薄膜制备等复杂操作。离子溅射仪的核心工作原理基于物理…
日期：2025-04-20离子溅射仪是一种先进的材料表面处理设备，主要用于在各种基底材料表面沉积一层或多层薄膜。其主要功能和应用包括： 薄膜沉积：通过离子束轰击靶材（如金属、合金或化合物），将靶材的原子或分子溅射出来，并沉积在样品表面，形成均匀、致密的金属或化合物薄膜。这…
日期：2025-04-20离子溅射仪作为一种常用的薄膜制备和表面改性工具，在材料科学、电子工程以及表面分析等领域中广泛应用。掌握其正确的操作方法不仅能提高实验效果，还能延长设备的使用寿命。微仪真空小编将详细讲解离子溅射仪的使用方法，帮助用户在操作过程中避免常见错误，确保实验的高效进行。离…
日期：2025-04-20离子溅射仪的基本原理离子溅射仪是一种利用离子束对材料表面进行轰击，以达到清洁、蚀刻或镀膜目的的设备。在离子溅射过程中，需要将待处理材料置于真空室内，通过离子源产生高能离子。这些离子在电场的作用下被加速，撞击到材料表面，使材料表面的原子或分子被溅射出来，形成薄膜。…
日期：2025-04-20离子溅射仪的原理与应用离子溅射仪是一种利用高能离子束轰击靶材表面，使靶材原子或分子从表面脱离并沉积在基底上的设备。其工作原理基于离子与靶材原子的碰撞过程。当高能离子束撞击靶材时，能量传递导致靶材表面的原子被溅射出来，这些溅射出的原子或分子随后在基底上形成薄膜。这…
日期：2025-04-20
客服1