高真空双靶磁控溅射仪 (直流/射频)
高真空双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪和两个电源，一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜，一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。
设备概述：
可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。
设备性能：
双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪和两个电源，一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜，一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜，
可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。
设备参数
仪器主机尺寸: 长610mm×宽420mm×高220mm（注：含腔体总高490mm）
工作腔室尺寸： 标配：玻璃腔体（高度可选）：直径260mm×高200mm（外尺寸）
直径240mm×高200mm（内尺寸）
选配：金属腔体：直径260mm×高270mm（外尺寸 ）
直径210mm×高270mm（内尺寸）
靶头： 标配：双靶
靶材尺寸： 直径50mm×厚3mm（因靶材材质不同厚度有所不同）
靶材料： 标配两块直径50mm×3mm的铜靶（可选配多种靶材）
靶枪冷却方式： 水冷
真空系统： 抗冲击涡轮分子泵，抽速为 300L/s
前级机械泵： 抽速为 4L/s，带防返油电磁阀及油污过滤器
真空测量： 采用复合真空计监测真空
极限真空度: 5×10-5Pa（10分钟可到5×10-4Pa）
电源： 标配：直流恒流电源：输入电压：220V
输出电压：0-600v
输出电流：0-1.6A
选配：射频功率电源：功率1000W，配射频匹配器。
载样台： 直径200mm，可根据客户需求定制载样台。
工作气体： Ar等惰性气体（需自备气瓶及减压阀）
气路： 溅射真空度手动调整（可选配气体质量流量计）
水冷： 自循环冷却水机
电源电压： 220V 50Hz
启动功率 3KW
客服1