设备概述：
高真空单靶磁控溅射镀膜仪是我公司研制开发的一款经济实用的桌面型磁控溅射设备,专为材料科学和样品制备设计的镀膜仪器。
广泛用于广大高校和材料科学与工程科研院所的镀膜科研相关项目。
可用于溅射金属、非金属、陶瓷、半导体、绝缘体或其他各类膜材料、氧化物等的薄膜制备。
设备性能：
高真空磁控溅射镀膜仪提供了最稳定的溅射环境，在极短的时间内就达到了磁控溅射的基本实验条件。
它提供了DC / RF两种溅射电源选项，允许在试样上溅射导电或非导电物质，并提高了物理气相沉积(PVD)性能。
设备参数:
仪器主机尺寸: 长610mm×宽420mm×高220mm（注：含腔体总高490mm）
工作腔室尺寸： 标配：玻璃腔体（高度可选）：直径260mm×高200mm（外尺寸）
直径240mm×高200mm（内尺寸）
选配：金属腔体：直径260mm×高270mm（外尺寸 ）
直径210mm×高270mm（内尺寸）
靶头： 标配：单靶
靶材尺寸： 直径50mm×厚3mm（因靶材材质不同厚度有所不同）
靶材料： 标配一块直径50mm×3mm的铜靶（可选配多种靶材）
靶枪冷却方式： 水冷
真空系统： 抗冲击涡轮分子泵，抽速为 300L/s
前级机械泵： 抽速为 4L/s，带防返油电磁阀及油污过滤器
真空测量： 采用复合真空计监测真空
极限真空度: 5×10-5Pa（10分钟可到5×10-4Pa）
电源： 标配：直流恒流电源：输入电压：220V
输出电压：0-600v
输出电流：0-1.6A
选配：射频功率电源：功率1000W，配射频匹配器。
载样台： 直径200mm，可根据客户需求定制载样台。
工作气体： Ar等惰性气体（需自备气瓶及减压阀）
气路： 溅射真空度手动调整（可选配气体质量流量计）
水冷： 自循环冷却水机
电源电压： 220V 50Hz
启动功率 ： 3KW
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