溅射靶材通过 “溅射镀膜” 将原子 / 离子转移到玻璃基板，形成功能薄膜，工作原理为 “离子轰击 - 原子逸出 - 薄膜沉积” 三步，属物理气相沉积（PVD）：1. 离子产生与加速：真空腔内氩气被高压电离为氩离子，受电场力加速冲向带负电的靶材；2. 靶材原子逸出：氩离子撞击靶材，传递…
日期：2025-04-20
在微电子制造中，反应离子刻蚀机（RIE）凭借 “物理轰击 + 化学反应” 的协同优势，成为半导体材料精细刻蚀的核心设备。但作为高精尖设备，RIE 运行中易受真空环境、气体配比、离子源状态等因素影响，出现各类故障，直接影响刻蚀精度与生产效率。本文梳理 RIE 的 4 类常见故障，解析…
日期：2025-04-20一、引言：RIE 技术在高频电路制造中的核心地位在高频电路制造领域，器件性能对结构精度的要求苛刻至纳米级别。反应离子刻蚀（RIE）技术凭借 “物理撞击 + 化学反应” 的双重作用，成为突破制造瓶颈的关键手段，其核心价值体现在：1. 实现半导体材料的精准雕刻；
日期：2025-04-20
一、引言：RIE 刻蚀机的核心地位与发展意义在现代半导体制造、微机电系统（MEMS）开发及纳米技术领域，反应离子刻蚀（RIE）技术是决定器件精度与性能的核心工艺。其凭借 “高精度刻蚀 + 高纵横比加工” 的核心能力，直接影响制造功效与制品质量 —— 从半导体芯片的纳米级电路图案，…
日期：2025-04-20
一、引言：控制系统与自动化技术的核心价值随着微电子工业向纳米级工艺迭代，反应离子刻蚀（RIE）技术已成为半导体制造的 “核心引擎”，其刻蚀精度与复杂图案加工能力直接决定芯片性能。而在 RIE 技术落地过程中，控制系统是保障刻蚀过程稳定的 “大脑”，自动化技术是提升生产效率…
日期：2025-04-20
一、引言：反应离子刻蚀机的核心地位在科技飞速发展的当下，集成电路已成为手机、电脑、智能设备等现代电子产品的核心。而要制造出性能卓越的集成电路，反应离子刻蚀机是不可或缺的关键设备。它凭借高精度的加工能力，既能精准雕刻出复杂的电路图案，又能大幅提升生产效率、保障制造…
日期：2025-04-20
一、引言在半导体制造的反应离子刻蚀（RIE）过程中，等离子体的生成、刻蚀反应的效率与精度，均依赖于对气体的精细化管理 —— 从气体的流入、配比，到腔室内压力的稳定，每一个环节都直接影响刻蚀结果。可以说，气体管理技术是 RIE 刻蚀机的 “血液调节系统”：若气体流量不稳，会…
日期：2025-04-20
一、引言：工业 4.0 与微电子制造的智能化转型工业 4.0 以 “智能化、互联化、数字化” 为核心，推动制造业从 “传统批量生产” 向 “定制化、高效化、低耗化” 升级。在微电子制造领域，芯片尺寸不断向 2nm 及以下节点突破，器件结构愈发复杂（如 GAA 全环绕栅极），对加工设备的精…
日期：2025-04-20
反应离子刻蚀（RIE）的核心是 “等离子体参与的化学反应 + 物理轰击” 结合：先将刻蚀气体（如氟化物、氯化物气体）通入真空腔室，通过射频电源激发形成等离子体 —— 这些带电的离子、自由基具有高活性，会先与待刻蚀材料（如硅、金属）发生化学反应，生成易挥发的产物；同时，等离…
日期：2025-04-20在智能制造蓬勃发展的当下，半导体制造技术作为其中的关键支撑，正经历着前所未有的变革。反应离子刻蚀机（RIE）作为半导体制造流程里的核心设备，其重要性愈发凸显。它凭借独特的工作原理和卓越的性能，在智能制造领域大显身手，为众多行业的创新发展注入了强大动力。接下来，我们…
日期：2025-04-20
在微电子制造领域，反应离子刻蚀机（RIE）是集成电路加工的核心设备。其刻蚀均匀性决定了芯片上不同区域结构尺寸的一致性，表面质量则直接影响器件电学性能与长期可靠性。若均匀性偏差超 5%，可能导致同一批次芯片部分失效；表面残留或损伤，会引发漏电、阈值电压漂移等问题。以下从…
日期：2025-04-20
在现代微纳加工领域，从芯片的纳米级电路到 MEMS 传感器的微观结构，对加工精度的要求已从 “微米级” 迈向 “纳米级”。反应离子刻蚀技术（RIE）凭借 “物理轰击 + 化学反应” 的协同优势，突破传统刻蚀技术的精度瓶颈，成为推动微纳制造业升级的核心力量。以下从技术对加工精度的…
日期：2025-04-20
在镀膜领域，氧化物溅射（比如镀 ITO、ZnO、Al₂O₃等）是做透明导电膜、绝缘膜的常用工艺，但比起金属溅射，它的稳定性要难控制得多 —— 经常出现 “同批次样品，前几片镀层透光率达标，后面突然变浑浊”“上午镀的膜电阻合格，下午就偏高” 的情况。作为天天跟镀膜设备打交道的微…
日期：2025-04-20
在高真空工厂待过的人都知道，车间里那些连接着巨大工作腔的金属管道和嗡嗡作响的机组，就是负责 “抽空气” 的泵送系统。外行人看觉得这活儿简单 —— 不就是把腔里的空气抽出去嘛？但只有天天跟这套系统打交道的师傅才清楚，从大气压抽到 10⁻⁵Pa 甚至更高的真空度，整个过程就像…
日期：2025-04-20
在实验室里做材料镀膜，最让人闹心的莫过于实验结束后，离子溅射仪的腔室盖子死活打不开 —— 手拧得发酸，盖子纹丝不动，里面的样品取不出来，后续实验全被耽误。作为天天帮实验室处理设备故障的微仪真空小编，每年都要接到几十起 “盖子打不开” 的咨询，其实这问题大多不是设备坏…
日期：2025-04-20
在离子溅射镀膜车间待久了，经常会听到师傅们抱怨：“这靶材又中毒了，镀出来的膜要么颜色不对，要么性能差，白瞎了半天功夫！” 对刚接触镀膜的人来说，“靶材中毒” 听起来像个玄乎的专业术语，但其实它就是反应溅射工艺中常见的 “故障”—— 今天就用咱们微仪真空日常碰到的案例…
日期：2025-04-20
CVD（Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积）是一种通过化学反应在基材表面生成固态薄膜的镀膜技术，核心是让含有薄膜元素的气态前驱体，在特定温度、压力等条件下，通过分解、化合等化学反应，在基材表面沉积形成均匀、致密的镀层。从实际生产场景来看，CVD 的工艺逻辑很容易理…
日期：2025-04-20
在离子溅射仪使用中，靶材是核心耗材 —— 很多科研人员和工厂师傅常问：“靶材看着还能用，到底什么时候该换？”“换靶材时没注意步骤，装完后抽不了真空怎么办？” 作为天天帮客户处理靶材问题的微仪真空小编，今天就从 “判断信号” 和 “更换步骤” 两方面，给大家讲透离子溅射…
日期：2025-04-20
首先要明确：我们日常说的 “真空”（如真空包装、实验室真空罐），其实都是 “相对真空”，而不是 “绝对真空”。两者的核心区别，在于空间内物质粒子的 “存在程度”： 类型物质粒子密度（个 / 立方米）典型场景
日期：2025-04-20
在真空镀膜领域，蒸镀、溅射、离子镀膜是最常用的三种技术，但很多朋友分不清它们的适用场景 —— 有的适合做高纯度膜，有的擅长镀厚膜，有的则在附着力上更有优势。这阵子整理了实验室的测试数据和客户案例，先通过表格直观对比三者的核心区别，再重点聊聊磁控溅射工艺的 “过人…
日期：2025-04-20
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