在科研探索的征途上，前沿技术的突破往往源于跨领域的深度协作。当专注于真空镀膜技术研发的微仪真空，与深耕科研创新的清华大学相遇，双方围绕镀膜工艺打样验证的合作，成为突破技术瓶颈、推动行业进步的典型范例。本次合作聚焦镀金工艺优化与SEM（扫描电子显微镜）样品制备核心需求，微仪真空的离子溅射仪凭借卓越技术性能，成为解决科研痛点的关键设备。
清华大学在某前沿材料研究项目中，面临多重技术挑战：其一，为提升 SEM 观测精度，需在非导电材料表面制备均匀镀金层，传统电镀工艺易产生针孔缺陷，且无法满足纳米级镀膜厚度控制要求；其二，SEM 样品对镀金层的导电性、附着力要求极高，常规镀膜设备难以平衡 “超薄镀层” 与 “稳定导电性能”；其三，项目需快速完成多组样品的工艺迭代，传统设备单次镀膜周期长达 8 小时，严重制约研究进度。此外，新型材料的特殊表面结构，还对镀膜设备的真空环境稳定性、离子束均匀性提出了更高要求。
针对项目痛点，微仪真空以VI-900M型离子溅射仪为核心，提供定制化解决方案，其技术优势贯穿镀金与 SEM 样品制备全流程：
1. 精准控厚与高均匀性：设备搭载双通道石英晶体膜厚监测系统，可实时反馈镀金层厚度，最小控制精度达 0.1nm，结合专利性 “环形磁控溅射靶” 设计，使离子束在样品表面形成 360° 均匀覆盖，最终镀金层厚度偏差小于 ±5%，完美解决 SEM 观测中 “边缘电荷积累” 问题，成像清晰度提升 40% 以上。
2. 高效镀膜与低损伤：采用射频 + 直流双模式溅射技术，针对不同基材特性自动切换能量输出模式 —— 在高分子材料样品镀金时，以低能射频模式避免样品热损伤；在金属基底样品制备中，通过直流模式将单次镀膜时间压缩至 30 分钟以内，较传统设备效率提升 15 倍，45 天内完成 20 组不同工艺参数的样品验证，助力项目快速推进。
3. 高真空环境与纯度保障：设备配备分子泵 + 机械泵二级真空系统，极限真空度可达 5×10⁻⁵Pa，有效减少空气杂质对镀金层的污染；同时内置高纯度氩气净化模块，确保溅射过程中无杂质离子干扰，最终镀金层纯度达 99.99%，满足 SEM 高分辨率成像需求。
4. 智能化与适配性：设备搭载 7 英寸触控屏，可预设 100 组工艺参数，支持一键调用镀金、镀铂等常用 SEM 样品制备程序；样品台采用可调节式设计，最大可兼容直径 100mm 的晶圆级样品，同时支持定制化夹具，适配清华大学项目中不规则形状的新型材料样品，解决传统设备 “样品适配难” 问题。
在实际合作中，微仪真空技术团队与清华大学科研人员紧密配合：前期通过模拟软件预判不同镀金厚度对 SEM 成像的影响，确定 10-20nm 为最优镀膜区间；中期现场调试设备，针对新型材料表面粗糙度高的问题，优化离子束轰击角度，将镀膜附着力提升 30%；后期协助完成 SEM 表征测试，对比数据显示，采用微仪真空离子溅射仪制备的样品，成像信噪比显著优于传统电镀工艺样品，成功捕捉到材料表面纳米级孔隙结构，为项目研究提供关键实验数据。
此次合作不仅实现了 “45 天完成传统 3 个月工艺验证” 的高效突破，更通过定制化技术方案，解决了新型材料 SEM 样品制备的行业难题。微仪真空离子溅射仪的技术优势，既满足了高校科研对 “高精度、高效率、高适配性” 的需求，也为后续真空镀膜技术在半导体、新能源等领域的应用积累了实践经验。未来，微仪真空将持续深化与高校及科研机构的合作，围绕离子溅射、真空蒸镀等核心技术，推出更多定制化解决方案，助力科研创新突破，共同推动行业技术升级。
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