磁控溅射镀膜作为物理气相沉积（PVD）领域的核心技术，凭借镀膜均匀、附着力强的优势，在半导体、新能源、光学材料等领域应用日益广泛。2025 年下半年，行业迎来技术突破与市场扩张的双重爆发，以下三大热点值得重点关注：
一、技术革新：一步法工艺打破行业瓶颈，设备效率飙升 5 倍
在新能源电池核心部件 —— 复合集流体领域，磁控溅射技术实现里程碑式突破。深圳市汉嵙新材料首创磁控溅射一步干法工艺，彻底解决了传统 “磁控溅射 + 水电镀” 两步法存在的基材损伤、良率低、环保隐患等问题。
该技术搭配全球首台 32 圆柱靶双面卷绕式磁控溅射设备，通过 40KW 大功率电源驱动与高效冷却系统配合，将沉积效率提升 5 倍以上，靶材利用率突破 75%，定向磁控溅射技术更使材料利用率达到 80% 以上。目前汉嵙新材已实现 90% 高良率稳定量产，复合集流体综合成本降至 4~5 元 /㎡，成功进入头部电芯企业供应链，推动锂电池能量密度提升 5%—10%，同时通过 “熔断 + 断路” 效应强化热失控防护能力。
更值得关注的是，该技术平台具备极强通用性，同一产线可无缝切换生产复合铜箔、铝箔、光学膜等多种产品，为企业降本增效提供新路径。
二、市场布局：龙头企业跨界并购，锁定核心部件供应链
高端镀膜装备市场的爆发式增长，引发产业链上下游的战略布局热潮。10 月 22 日，工业风扇领军企业开勒股份宣布拟现金收购东莞市科盛机电不低于 50% 股权，正式切入高端镀膜装备核心赛道。
此次并购的核心标的科盛机电，是磁控溅射镀膜设备 “心脏”—— 阴极部件的重要供应商，其平面阴极、旋转阴极等产品广泛应用于半导体、新能源、国防军工等领域，客户覆盖国内头部镀膜设备厂商。阴极部件直接决定薄膜沉积速率与成膜质量，优质阴极可显著提升靶材利用率、延长设备维护周期，对控制下游生产成本至关重要。
开勒股份表示，将通过自身在电机驱动、电源控制领域的技术积累，结合 AI 智能算法，为磁控溅射设备提供自动化控制与精准镀膜解决方案，形成 “传统制造 + 高端部件 + AI 应用” 的多元化架构，抢占全球真空镀膜设备市场的增长红利。据华源证券预测，2025 年全球真空镀膜设备市场规模将突破 350 亿美元。
三、应用拓展：打破国际垄断，高端光学膜实现国产化突破
磁控溅射技术在光学材料领域的应用取得重大进展，成功打破国外企业长期垄断。汉嵙新材利用磁控溅射技术实现超高亮反射银膜量产，成为国内首家且唯一掌握该技术的企业，产品性能达到国际先进水平，终结了日本尾池、美国 3M 等企业的技术霸权。
反射银膜作为 LCD 背光模组核心材料，此前长期依赖进口，国产化突破将大幅降低显示产业成本。在车用光学领域，该公司凭借磁控溅射技术优势，深度参与 AR（减反射）、AG（防眩光）、AF（抗指纹）多层功能膜研发，为 3A 光学膜高端市场国产化提供核心支撑。
与此同时，学术领域对磁控溅射技术的研究持续深入。11 月 10 日上海科技大学《造芯大讲堂》专门开设专题课程，系统讲解磁控溅射镀膜原理、膜厚均匀性计算、电源技术等核心内容，反映出行业对基础研究与人才培养的重视。
行业趋势总结
从技术突破到市场布局，磁控溅射镀膜行业正迎来 “技术迭代 + 需求爆发” 的双重驱动期。一步法工艺的成熟推动产业化落地加速，核心部件的技术竞争日趋激烈，而跨领域应用拓展则打开更广阔市场空间。随着新能源、显示面板、半导体等下游产业的持续扩容，磁控溅射镀膜技术将在高端制造领域扮演愈发重要的角色。
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