近日，深圳微仪真空技术有限公司（以下简称 “微仪真空”）在技术研发、团队建设与服务体系三大板块同步发力，通过工艺优化、人才扩容与服务细化，进一步提升对科研领域的支持能力，为真空镀膜相关研究提供更高效、更贴合需求的技术保障。
技术攻坚：聚焦科研痛点，优化真空镀膜核心工艺
针对科研实验室常见的 “空间有限、操作复杂、精度难控” 等问题，微仪真空研发团队近期完成多项工艺优化。在磁控溅射技术方向，通过磁路结构改良，将靶材利用效率提升超 60%，有效降低实验耗材成本；同时优化薄膜厚度控制算法，使纳米级镀层精度误差缩小至 0.1nm 内，满足精密材料研究对涂层均匀性的高要求。
考虑到高校与科研机构实验室空间布局特点，研发团队还对真空系统集成方案进行调整，通过模块整合将设备整体占用空间压缩近 40%，即便小型实验室也能灵活部署；操作流程上简化参数设置步骤，新增多组场景化实验方案模板，新手科研人员可快速上手，大幅缩短实验准备时间。
团队扩容：汇聚专业人才，强化技术服务能力
为进一步提升技术支撑水平，微仪真空近期迎来三位资深技术人才加盟。其中，曾参与中科院真空系统研发的李工，将主导真空环境控制技术优化；拥有十年半导体镀膜工艺经验的张工，专注于科研场景工艺适配方案设计；专攻智能化算法的陈博士，则负责设备操作便捷性与数据精准度提升。
新成员与原有核心团队（含清华、厦大等高校背景技术人员）形成互补，目前已启动 “低温溅射技术” 联合攻关，计划开发适配柔性电子、生物材料等敏感样品的实验支持方案，解决特殊材料镀膜过程中的温度影响难题，助力更多跨领域科研项目推进。
服务升级：贴合科研节奏，打造高效响应体系
结合科研项目 “周期紧、需求特、精度高” 的特点，微仪真空对服务流程进行全面升级。推出 “1 小时技术咨询响应、24 小时故障排查支持、3 天现场技术指导” 的服务标准，确保科研过程中遇到的技术问题能快速解决；同时为长期合作的科研团队提供免费技术培训，定期分享真空镀膜领域的实验技巧与经验，帮助科研人员提升实验效率。
针对部分特殊研究需求，团队还提供定制化技术支持，协助科研人员设计专属实验方案，截至目前已为数十个科研项目解决 “特殊样品镀膜、实验参数优化” 等个性化问题。
“科研需求是我们的核心导向。” 公司负责人表示，未来微仪真空将持续聚焦真空技术研发与科研服务优化，通过技术创新与服务细化，为更多科研团队提供有力支持，助力科研成果高效转化。
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