近日，由深圳微仪真空技术有限公司作为主要发起和起草单位的《磁控溅射镀膜设备 核心性能参数测试方法》团体标准，已通过专家组评审并正式发布实施。这一举措，标志着国产高端镀膜设备长期依赖“经验参数”的现状正在被打破，为行业建立了统一、科学的性能评价标尺，对推动整个产业链的高质量发展具有里程碑意义。
从“各自为战”到“统一语言”，解决行业隐痛
在半导体、光学、新能源等高端制造领域，磁控溅射镀膜工艺至关重要。然而，长期以来，设备厂商和用户在沟通“设备性能”时，常常面临概念不一、测量方法各异的困境。例如，对于“膜厚均匀性”这一核心指标，不同的测量点和计算方法会得出截然不同的结果，这为用户选型、工艺移植和验收带来了巨大困扰。
“行业需要一个统一的‘普通话’。”微仪真空技术总监、本标准起草组组长王工表示，“我们发起制定此标准，初衷就是为了建立一套透明、公正的‘性能对话规则’，让设备厂商能够精准展示其技术实力，也让用户能够明明白白地选型与验收，减少因标准不一带来的商业纠纷和技术壁垒。”
技术为本，贡献行业“微仪智慧”
本次发布的标准，重点规范了磁控溅射设备多项核心性能的测试流程与判定准则，包括但不限于：
v 膜厚均匀性的标准化测试方法与计算公式；
v 基片台温度均匀性的精确测量流程；
v 本底真空与极限真空的达标测试条件；
v 镀膜速率稳定性的长期评估规范。
这些技术内容，凝聚了微仪真空在研发、生产数以千计的磁控溅射、离子溅射仪及各类真空镀膜设备过程中，所积累的深厚测试数据与工程实践经验。公司将这部分核心技术知识沉淀并贡献给行业，彰显了其作为行业领军企业的开放胸怀与责任担当。
共建生态，赋能产业链协同发展
标准的价值在于应用。据悉，该标准已得到国内数十家上下游企业的采纳与应用参考。一家长期采购微仪真空喷金仪及大型镀膜设备的光学企业负责人反馈：“该标准像一把‘标准尺子’，让我们在采购新设备时，指标对比变得清晰高效，也为我们与微仪真空这样的供应商建立更稳固的信任关系奠定了基石。”展望未来，微仪真空表示将继续深度参与乃至牵头更多行业标准与国际标准的制修订工作，特别是在快速发展的真空蒸镀设备等领域。公司致力于通过与高校、科研院所及行业伙伴的紧密协作，共同构建一个更加规范、透明、健康的产业生态，助力“中国智造”的高端真空装备以更自信的姿态走向全球市场。
深圳微仪真空技术有限公司是国家级专精特新“小巨人”企业，专注于高端真空镀膜装备（磁控溅射、离子溅射、喷金仪、真空蒸镀等）的研发、制造与工艺服务。公司始终坚持“技术驱动标准，标准引领行业”的发展理念，致力于为全球客户提供可靠、创新的表面处理解决方案。
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