在材料表面处理领域，离子溅射仪确实凭借高精度、低温性圈粉不少，但作为天天跟设备打交道的 “老玩家”，微仪真空小编得跟大家掏掏心窝子 —— 实际操作中，这技术并非 “万能神药”，处理后可能埋下的几个缺点，往往会直接影响材料性能，甚至让前期的工艺投入打水漂。很多人选离子…
日期：2025-06-01
离子溅射仪本质是磁控溅射 PVD 技术的具象化设备，核心是通过 “磁场约束电子 + 离子轰击靶材” 的协同作用，实现基材表面的高精度镀膜。很多人觉得原理抽象，其实拆解成实际设备的运作步骤就很容易理解：首先，设备会将镀膜腔抽到 10⁻³-10⁻⁵Pa 的高真空环境 —— 这一步是为了减…
日期：2025-05-23在镀膜领域，氧化物溅射（比如镀 ITO、ZnO、Al₂O₃等）是做透明导电膜、绝缘膜的常用工艺，但比起金属溅射，它的稳定性要难控制得多 —— 经常出现 “同批次样品，前几片镀层透光率达标，后面突然变浑浊”“上午镀的膜电阻合格，下午就偏高” 的情况。作为天天跟镀膜设备打交道的微…
日期：2025-04-20
在高真空工厂待过的人都知道，车间里那些连接着巨大工作腔的金属管道和嗡嗡作响的机组，就是负责 “抽空气” 的泵送系统。外行人看觉得这活儿简单 —— 不就是把腔里的空气抽出去嘛？但只有天天跟这套系统打交道的师傅才清楚，从大气压抽到 10⁻⁵Pa 甚至更高的真空度，整个过程就像…
日期：2025-04-20
在实验室里做材料镀膜，最让人闹心的莫过于实验结束后，离子溅射仪的腔室盖子死活打不开 —— 手拧得发酸，盖子纹丝不动，里面的样品取不出来，后续实验全被耽误。作为天天帮实验室处理设备故障的微仪真空小编，每年都要接到几十起 “盖子打不开” 的咨询，其实这问题大多不是设备坏…
日期：2025-04-20
在离子溅射镀膜车间待久了，经常会听到师傅们抱怨：“这靶材又中毒了，镀出来的膜要么颜色不对，要么性能差，白瞎了半天功夫！” 对刚接触镀膜的人来说，“靶材中毒” 听起来像个玄乎的专业术语，但其实它就是反应溅射工艺中常见的 “故障”—— 今天就用咱们微仪真空日常碰到的案例…
日期：2025-04-20
CVD（Chemical Vapor Deposition，化学气相沉积）是一种通过化学反应在基材表面生成固态薄膜的镀膜技术，核心是让含有薄膜元素的气态前驱体，在特定温度、压力等条件下，通过分解、化合等化学反应，在基材表面沉积形成均匀、致密的镀层。从实际生产场景来看，CVD 的工艺逻辑很容易理…
日期：2025-04-20
低温溅射型磁控溅射仪是一种利用磁场控制离子轰击靶材表面并将材料溅射到基材上的薄膜制备技术。磁控溅射仪主要包括真空室、靶材、基材和磁控源等组成部分。在磁控溅射过程中，靶材被高能离子轰击后会产生材料溅射，这些材料会沉积在基材上形成薄膜。磁控源通过施加磁场来控制离子…
日期：2025-04-20在真空加工中，水蒸气是一个常见的问题。水分子因其高度极性，容易粘附在金属表面，尤其是在不锈钢的氧化铬保护层上。这些水分子必须从真空系统中排出，否则会延长达到所需真空度的时间。水蒸气的挑战水蒸气的排除不仅依赖于泵的容量，还与水分子从金属表面的解吸动力学有关。因此…
日期：2025-04-20这个简短的教程旨在帮助读者了解哪些材料可以通过高真空沉积工艺进行处理。对于第一次接触这种工艺的人来说，这个问题非常重要，特别是如果他们想将其应用于自己的产品。 真空沉积工艺的可行性在考虑将真空沉积工艺应用于特定产品时，需要分析多个方面。例如：- 技术目标是什么？…
日期：2025-04-20O形圈是高真空系统中的关键组件。它们是圆形截面的弹性材料密封件，通常安装在特定的阀座中，在使用过程中被压缩，以形成密封。 O形圈的工作原理O形圈（也称为OR）是一种常见的垫圈形式，适用于静态和动态条件。对于需要在压力下密封的应用，如果O形圈选择得当，且阀座的尺寸和构造…
日期：2025-04-20在高真空工厂中，泵送系统用于去除工作腔中的空气。这听起来简单，但实际上过程更复杂。泵送过程最开始，泵会去除腔室内的空气，主要成分包括氮气、氧气和水蒸气。然而，随着时间推移，泵管理的气体逐渐被来自腔室表面的脱气气体取代。脱气是指表面挥发性物质释放的气体流动，其中…
日期：2025-04-20扩散泵是一种静态装置，广泛用于需要1e-4到1e-9 mbar真空度的系统。它们是第一种能够在分子真空状态下产生泵送作用的设备。 工作原理扩散泵的工作依赖于适当定向的蒸汽射流与气体分子之间的动量传递。这种泵也被称为“气体喷射泵”，因为气体无法在蒸汽流动方向上扩散。泵中的蒸汽…
日期：2025-04-20随着工业对高质量功能薄膜的需求不断增长，磁控溅射技术在过去20年迅速发展，逐渐成为沉积工业涂层的首选方法。自1970年代初期传统磁控管的开发以来，这项技术经历了多次重要进步，包括不平衡磁控管和脉冲磁控溅射（PMS）的引入。磁控溅射原理传统的磁控溅射过程依赖高能离子轰击靶…
日期：2025-04-20“真空沉积技术”是指在高真空环境中，利用各种工艺在基板上沉积多种成分的薄膜。这个过程涉及三个关键要素：源、传输过程和衬底。薄膜的特性受到多种参数的影响，如沉积温度、基板性质、真空室内残余气体成分及沉积速率。物理气相沉积（PVD）PVD技术涵盖多种方法，主要包括：· 热…
日期：2025-04-20高真空系统中的颗粒密度在高真空环境中，通常可以达到10^-6到10^-8 mbar的压力。为了理解这些条件下的颗粒数，我们可以考虑理想气体的摩尔体积。在1 cm³的体积中，通常情况下（如在大气压下），存在约2.7 × 10^19个气体颗粒。 颗粒密度计算大气压下： 1 cm³体积中约有2.7 × 10^19个…
日期：2025-04-20射频溅射是一种在1960年代开始发展的技术，用于在各种材料上制作薄膜，包括导体和绝缘体。到了1970年代，这种技术逐渐流行。直流溅射是使用金属和半导体靶材的有效方法，但当靶材是绝缘体时，轰击靶材的离子会使其带电，导致靶材电位上升，进而阻止离子继续撞击。 “射频”指的是无…
日期：2025-04-20在真空处理机器和科学仪器中，腔室通常由不锈钢制成。这是因为不锈钢具有许多优点，使其特别适合这些环境。 不锈钢的优势： 1. 耐腐蚀性：不锈钢含有铬，能在表面形成保护性的钝化层，防止氧化和生锈。2. 高温耐受性：在高温下也能保持稳定性，适合热处理和清洁操作。3. 焊接和加工…
日期：2025-04-20真空加工需要在特定的无空气环境中进行，这要求使用复杂且昂贵的设备。为什么会有这种需求呢？主要有两个原因。 1. 空气的成分 空气主要由氮气（约78%）、氧气（约21%）和氩气（约1%）组成。其中，氩气是一种惰性气体，不会自发反应，常用于焊接等工艺中提供保护气氛。而氮气和氧气…
日期：2025-04-20铝合金电化学抛光铝合金的电化学抛光又称电解抛光，其原理与化学抛光相似，都是通过选择性溶解铝材表面微小凸出部分从而使铝材表面变得平整光滑。铝材作为阳极浸入到配制好的电解溶液中，以耐腐蚀而且导电性能良好的材料作为阴极，根据电化学尖端放电,原理，通电后铝材表面微小凸出…
日期：2025-04-20
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