1.氧化物溅射原理在氧化物溅射工艺生产过程当中，“氧化物模式”和“纯金属模式”之间的转变和过渡原本是十分易变和不稳定的。因此，保持磁电场放电量的稳定性是生产高质量光学膜层的关键所在。其中最主要的优点是大大增强了双阴极的溅射效率。通过氧分压技术和三段供气技术的配合…
日期：2025-04-20磁控溅射镀膜工艺是一种先进的薄膜涂层制备技术，广泛应用于各个领域，包括太阳能、电子、光学、生物医学等。磁控溅射凭借其优异的性能、均匀的涂层和灵活性，成为许多应用的首选涂层制备方法。微仪真空小编将详细介绍磁控溅射镀膜的工艺流程，以便让大家更好地了解这一技术。一、…
日期：2025-04-20所谓“溅射”就是用荷能粒子（通常用气体正离子）轰击物体，从而引起物体表面原子从母体中逸出的现象。1842年Grove（格洛夫）在实验室中发现了这种现象。1877年美国贝尔实验室及西屋电气公司首先开始应用溅射原理制备薄膜。1966年美国国际商用电子计算机公司应用高频溅射技术制成了…
日期：2025-04-20PVD是物理气相沉积（Physical Vapor Deposition）的缩写，是一种常用的薄膜沉积技术。它通过在真空环境下将材料加热到高温，使其蒸发或溅射形成气相，然后在基底表面沉积成薄膜。这种薄膜制备方法具有以下几个特点：--需要使用固态的或者熔化态的物质作为沉积过程的源物质。--源物…
日期：2025-04-20化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition) 简称CVD, 是利用气态的先驱反应物，通过原子、分子间化学反应的途径生成固态薄膜的技术。特别值得一提的是，在高质量的半导体晶体外延技术以及各种绝缘材料薄膜的制备中大量使用了化学气相沉积技术。比如，在MOS场效应管中，应用化学气相…
日期：2025-04-20低温溅射型磁控溅射仪是一种利用磁场控制离子轰击靶材表面并将材料溅射到基材上的薄膜制备技术。磁控溅射仪主要包括真空室、靶材、基材和磁控源等组成部分。在磁控溅射过程中，靶材被高能离子轰击后会产生材料溅射，这些材料会沉积在基材上形成薄膜。磁控源通过施加磁场来控制离子…
日期：2025-04-20在真空加工中，水蒸气是一个常见的问题。水分子因其高度极性，容易粘附在金属表面，尤其是在不锈钢的氧化铬保护层上。这些水分子必须从真空系统中排出，否则会延长达到所需真空度的时间。水蒸气的挑战水蒸气的排除不仅依赖于泵的容量，还与水分子从金属表面的解吸动力学有关。因此…
日期：2025-04-20这个简短的教程旨在帮助读者了解哪些材料可以通过高真空沉积工艺进行处理。对于第一次接触这种工艺的人来说，这个问题非常重要，特别是如果他们想将其应用于自己的产品。 真空沉积工艺的可行性在考虑将真空沉积工艺应用于特定产品时，需要分析多个方面。例如：- 技术目标是什么？…
日期：2025-04-20O形圈是高真空系统中的关键组件。它们是圆形截面的弹性材料密封件，通常安装在特定的阀座中，在使用过程中被压缩，以形成密封。 O形圈的工作原理O形圈（也称为OR）是一种常见的垫圈形式，适用于静态和动态条件。对于需要在压力下密封的应用，如果O形圈选择得当，且阀座的尺寸和构造…
日期：2025-04-20在高真空工厂中，泵送系统用于去除工作腔中的空气。这听起来简单，但实际上过程更复杂。泵送过程最开始，泵会去除腔室内的空气，主要成分包括氮气、氧气和水蒸气。然而，随着时间推移，泵管理的气体逐渐被来自腔室表面的脱气气体取代。脱气是指表面挥发性物质释放的气体流动，其中…
日期：2025-04-20扩散泵是一种静态装置，广泛用于需要1e-4到1e-9 mbar真空度的系统。它们是第一种能够在分子真空状态下产生泵送作用的设备。 工作原理扩散泵的工作依赖于适当定向的蒸汽射流与气体分子之间的动量传递。这种泵也被称为“气体喷射泵”，因为气体无法在蒸汽流动方向上扩散。泵中的蒸汽…
日期：2025-04-20随着工业对高质量功能薄膜的需求不断增长，磁控溅射技术在过去20年迅速发展，逐渐成为沉积工业涂层的首选方法。自1970年代初期传统磁控管的开发以来，这项技术经历了多次重要进步，包括不平衡磁控管和脉冲磁控溅射（PMS）的引入。磁控溅射原理传统的磁控溅射过程依赖高能离子轰击靶…
日期：2025-04-20“真空沉积技术”是指在高真空环境中，利用各种工艺在基板上沉积多种成分的薄膜。这个过程涉及三个关键要素：源、传输过程和衬底。薄膜的特性受到多种参数的影响，如沉积温度、基板性质、真空室内残余气体成分及沉积速率。物理气相沉积（PVD）PVD技术涵盖多种方法，主要包括：· 热…
日期：2025-04-20高真空系统中的颗粒密度在高真空环境中，通常可以达到10^-6到10^-8 mbar的压力。为了理解这些条件下的颗粒数，我们可以考虑理想气体的摩尔体积。在1 cm³的体积中，通常情况下（如在大气压下），存在约2.7 × 10^19个气体颗粒。 颗粒密度计算大气压下： 1 cm³体积中约有2.7 × 10^19个…
日期：2025-04-20靶材中毒指的是靶材发生了反应，成分发生了变化。例如，在TiN的沉积过程中，钛靶与氮气反应生成TiN。过程完成后，钛靶的表面会形成一层TiN，这种现象被称为靶材中毒。 靶材中毒的表现靶电压异常：靶材的电压长时间无法达到正常值，处于低电压状态，并伴随有电弧放电。通常，磁控溅…
日期：2025-04-20射频溅射是一种在1960年代开始发展的技术，用于在各种材料上制作薄膜，包括导体和绝缘体。到了1970年代，这种技术逐渐流行。直流溅射是使用金属和半导体靶材的有效方法，但当靶材是绝缘体时，轰击靶材的离子会使其带电，导致靶材电位上升，进而阻止离子继续撞击。 “射频”指的是无…
日期：2025-04-20在真空处理机器和科学仪器中，腔室通常由不锈钢制成。这是因为不锈钢具有许多优点，使其特别适合这些环境。 不锈钢的优势： 1. 耐腐蚀性：不锈钢含有铬，能在表面形成保护性的钝化层，防止氧化和生锈。2. 高温耐受性：在高温下也能保持稳定性，适合热处理和清洁操作。3. 焊接和加工…
日期：2025-04-20真空加工需要在特定的无空气环境中进行，这要求使用复杂且昂贵的设备。为什么会有这种需求呢？主要有两个原因。 1. 空气的成分 空气主要由氮气（约78%）、氧气（约21%）和氩气（约1%）组成。其中，氩气是一种惰性气体，不会自发反应，常用于焊接等工艺中提供保护气氛。而氮气和氧气…
日期：2025-04-20铝合金电化学抛光铝合金的电化学抛光又称电解抛光，其原理与化学抛光相似，都是通过选择性溶解铝材表面微小凸出部分从而使铝材表面变得平整光滑。铝材作为阳极浸入到配制好的电解溶液中，以耐腐蚀而且导电性能良好的材料作为阴极，根据电化学尖端放电,原理，通电后铝材表面微小凸出…
日期：2025-04-20真空镀膜技术，简称 PVD，是在真空条件下，运用物理方法使材料源表面气化成原子、分子或离子，进而在基体表面沉积具有特殊功能薄膜的技术。真空镀膜设备的镀膜技术主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类。其中，蒸发镀膜技术又细分为三种，即电阻蒸发、电子束蒸发和感应加热蒸发。一、…
日期：2025-04-20
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