热蒸发镀膜是物理气相沉积技术中最基础、应用最广泛的一种。其核心原理是在高真空环境下，通过加热使镀膜材料蒸发或升华，产生蒸气粒子，这些粒子在真空腔体中直线运动，最终沉积在基片表面，凝结形成固态薄膜。一、 核心技术原理与过程热蒸发技术的实现依赖于三个基本物理过程和一…
日期：2025-11-21
平面磁控溅射靶是现代真空镀膜设备的核心部件，以其结构相对简单、加工便捷、性能稳定而成为工业界与科研领域应用最广泛的溅射源。它通过引入磁场巧妙地控制带电粒子的运动，从根本上提升了溅射效率。根据靶材的平面形状，主要可分为圆形平面磁控溅射靶和矩形平面磁控溅射靶。两者在…
日期：2025-11-20
普通直流二极溅射是一种基础且重要的物理气相沉积技术，其核心原理是利用气体辉光放电产生的离子轰击靶材，实现薄膜沉积。该装置主要由真空镀膜室内的两个平行平面电极构成：阴极（靶材）：施加数千伏的直流负高压，装有直径为10-30cm的靶材。该电极必须具备冷却结构以防止靶材过热…
日期：2025-11-20
溅射镀膜的基本原理就是让具有足够高能量的粒子轰击固体靶表面使靶中的原子发射出来，沉积到基片上成膜。溅射镀膜有多种方式，其典型方式如表2-3 所示，表中列出了各种溅射镀膜的特点及原理图。从电极结构上可分为二极溅射、三极或四极溅射和磁控溅射。射频溅射适合于制备绝缘薄膜;…
日期：2025-11-20
溅射镀膜是一种利用离子轰击靶材，使靶材原子被溅射出来并沉积在基片上形成薄膜的工艺。其薄膜生长过程、影响因素以及沉积速率的控制是整个技术的核心。薄膜的生长是一个从原子尺度开始的动态过程，大致遵循以下四个阶段：1. 凝结与成核：被溅射出的靶材原子或分子到达基片表面后，…
日期：2025-11-20
当我们用扫描电镜观察纳米级的材料结构，当手机屏幕的导电膜实现精准透光，当生物医疗中的微型器件具备稳定性能 —— 这些微观世界里的 “材料奇迹”，背后都离不开一款关键设备的支撑：离子溅射仪。它以精准的物理作用，在微米甚至纳米尺度上 “雕琢” 材料表面，既是材料科学的 “…
日期：2025-06-11
在材料科学、微电子、光学镀膜等领域，高质量薄膜沉积技术是推动科研突破与产业升级的核心力量。小型磁控溅射仪凭借其精密控制、高效溅射和广泛适用性，成为科研机构及小规模生产用户的首选设备，为纳米技术、新能源、生物医学等领域提供了关键支撑。真空环境构建：通过机械泵与分子…
日期：2025-06-01
在材料表面处理领域，离子溅射仪确实凭借高精度、低温性圈粉不少，但作为天天跟设备打交道的 “老玩家”，微仪真空小编得跟大家掏掏心窝子 —— 实际操作中，这技术并非 “万能神药”，处理后可能埋下的几个缺点，往往会直接影响材料性能，甚至让前期的工艺投入打水漂。很多人选离子…
日期：2025-06-01
离子溅射仪本质是磁控溅射 PVD 技术的具象化设备，核心是通过 “磁场约束电子 + 离子轰击靶材” 的协同作用，实现基材表面的高精度镀膜。很多人觉得原理抽象，其实拆解成实际设备的运作步骤就很容易理解：首先，设备会将镀膜腔抽到 10⁻³-10⁻⁵Pa 的高真空环境 —— 这一步是为了减…
日期：2025-05-23
在电子信息、生物医疗、光学制造等领域的技术迭代中，材料表面性能的精准调控是关键突破点。从半导体芯片的电极镀膜，到扫描电镜样品的导电处理，再到生物医用器件的表面改性，这一系列高要求的表面处理工作，均依赖于离子溅射仪的技术支撑。作为材料表面工程领域的核心设备，离子溅…
日期：2025-05-23在科技飞速发展的当下，磁控溅射镀膜与真空镀膜技术广泛应用于电子、光学、新能源等诸多领域，为各行业的产品性能提升与创新提供了有力支撑。然而，随着行业的蓬勃发展，与之相关的政策法规也日益完善，旨在规范行业秩序、保障产品质量、推动绿色发展。以下将为您详细梳理该行业涉及…
日期：2025-05-06
在材料表面处理领域，磁控溅射镀膜设备早已不是 “通用款” 能满足所有需求 —— 半导体芯片需要 “原子级精度” 的薄膜控制，光伏组件追求 “高产能” 的溅射效率，建筑玻璃则看重 “大面积均匀性” 的镀膜能力。对于定制厂家而言，个性化服务不是简单的参数调整，而是从需求挖掘到…
日期：2025-05-06
在半导体制造向 14nm 及以下先进制程迈进的过程中，反应离子刻蚀机（RIE）作为 “图形化关键设备”，其单台设备功率消耗占晶圆厂总能耗的 12%-15%，且刻蚀过程中产生的挥发性有机物（VOCs）、含氟废气等污染物，成为行业绿色发展的重要挑战。微仪真空基于为国内 20 余家晶圆厂提供设…
日期：2025-05-06
磁控溅射镀膜技术，作为一种先进的薄膜制备工艺，其核心在于利用磁场对溅射过程的精确控制。在高度真空的环境中，通过巧妙地施加磁场，该技术能够引导溅射粒子在靶材表面形成高密度等离子体，进而实现薄膜的均匀且高质量的沉积。该技术之所以能够在多个领域得到广泛应用，得益于其制…
日期：2025-05-06
在半导体芯片向 7nm 及以下制程突破、纳米器件向多维度结构演进的当下，离子刻蚀机作为 “纳米级雕刻工具”，其技术迭代速度与市场布局方向，直接影响着整个高端制造产业的发展节奏。微仪真空结合一线设备服务经验与行业调研数据，从技术、市场、应用三个维度，拆解当前离子刻蚀机市…
日期：2025-05-06
氢能膜电极镀膜政策解读：磁控溅射技术的新机遇与合规要求随着《“十四五” 氢能产业发展规划》的推进，膜电极（氢能燃料电池核心部件）的需求呈爆发式增长，而磁控溅射镀膜技术因能制备 “高致密性、高导电性” 的膜电极催化层，成为行业重点关注的技术路径。但很多企业在切入该领…
日期：2025-05-06
在当今的半导体制造和纳米加工领域，离子刻蚀机作为一种重要的微细加工设备，其精确的刻蚀能力和广泛的应用范围使其成为行业内的关键工具。微仪真空小编将深入探讨离子刻蚀机的工作原理，从基础知识到高级技术，帮助读者全面理解这一技术。一、离子刻蚀机的基本原理离子刻蚀机利用高…
日期：2025-05-06
在当今科技浪潮中，从 3nm 芯片到 MEMS 传感器，从量子器件到光电子元件，这些改变生活的精密产品，都离不开 “在微观世界雕刻材料” 的核心能力。离子刻蚀机就是其中的 “关键工匠”—— 它能以纳米级精度去除材料，如同用 “原子级刻刀” 勾勒微观结构，成为微电子制造、微纳加工…
日期：2025-05-02
反应离子刻蚀机的能源消耗并非单一环节，而是贯穿 “设备运行 - 工艺执行 - 辅助系统” 全流程，核心可分为四大模块，其中电力与特种气体消耗占比超 80%：刻蚀工艺的核心是 “生成等离子体 + 维持真空环境”，这两大环节需持续消耗大量电力：• 射频电源：为生成等离子体，设备需搭…
日期：2025-04-28
要理解这一转变，首先需明确实验室与工业生产对反应离子刻蚀机的需求差异，这些差异正是技术升级的核心方向： 需求维度实验室级 RIE 机工业级 RIE 机
日期：2025-04-25
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