在材料科学、微电子、生物医学等领域，表面与薄膜的微观结构是决定其性能的核心因素 —— 从半导体器件的薄膜界面缺陷，到生物材料的表面亲疏水性，再到涂层的耐磨 / 耐腐蚀特性，都与其组织形貌、晶体结构直接相关。本文将从技术原理、细节特点、应用场景等维度，系统阐述表面与薄…
日期：2025-12-12
离子镀膜的工艺设计以 “性能导向” 为核心，通过精准控制多维度参数，实现三大核心目标：一是薄膜成分精准匹配，化学计量比偏差控制在 ±2% 以内，确保化合物薄膜的物相纯度；二是组织结构可控，获得晶粒尺寸 10~100nm、致密度 > 98% 的致密化结构；三是膜 / 基结合力优异，结合强度…
日期：2025-12-11
离子镀膜作为真空镀膜领域的关键技术之一，凭借等离子体调控与离子轰击效应的协同作用，实现了薄膜性能的突破性提升。其核心优势在于通过精准控制成膜过程中的能量传递、粒子反应与微观结构演化，制备出高硬度、高附着性、高稳定性的功能薄膜，广泛应用于刀具、模具、航空航天构件等…
日期：2025-12-11
以电阻加热式蒸发源为核心，利用基体与蒸发源两极间的辉光放电产生离子：Ø先将真空室抽至 10^{-4}\text{Pa} ，充入工作气体（Ar）使气压达到 0.5\sim5\text{Pa} ；Ø基体施加 1\sim5\text{kV} 负偏压，蒸发源与真空室接地，放电功率控制在 1.5\sim5\text{kW} ；Ø辉光放电在基体…
日期：2025-12-10
1. 技术分类：Ø按沉积粒子状态分两类：①低能离子（直接沉积成膜，又称 “低压沉积”）；②高能离子（先形成气体再反应沉积，能量高、成膜致密）。Ø离子源类型：单源、双源（如双离子束，一束溅射靶材、一束辅助沉积）、多源，可灵活调控离子种类与能量。2. 核心优势：Ø对靶材和基体…
日期：2025-12-10
在薄膜沉积技术的家族中，离子束溅射以其 “精准可控” 的特性，成为当前半导体、航天、量子科技等高端领域的核心工艺之一。它不仅解决了传统溅射的痛点，更在前沿产业中扮演着 “原子级工匠” 的角色。离子束溅射是一种通过约束离子束轰击靶材、实现原子级沉积的薄膜制备技术，也被…
日期：2025-12-09
反应磁控溅射的基础是磁控溅射的E×B 电子漂移效应：靶面垂直电场与平行磁场形成的 “电子捕集阱”，让二次电子沿摆线轨迹运动，大幅提升氩气电离率，实现高速、低温的金属原子溅射。而反应磁控的独特性在于向真空腔通入 O₂、N₂、CH₄等活性气体，其沉积过程存在两种典型模式：1. …
日期：2025-12-08
传统直流溅射技术面对 SiO₂、氮化铝等绝缘材料时，会陷入一个致命困境：正离子轰击绝缘靶材时，电荷无法导走，靶面电位持续上升，最终 “挡住” 后续离子的轰击，让镀膜戛然而止。而射频溅射的巧妙之处，在于用高频交变电场打破了这个僵局：它通过 13.56MHz（或更高）的射频电源，…
日期：2025-12-08
您的产品，是否也困于“颜色单调”、“质感平平”或“轻易刮花”的难题？在颜值即正义的市场里，答案就藏在那一层微米级的薄膜中。装饰性真空镀膜，正是这样一门融合了尖端物理与美学设计的表面处理艺术。与许多人想象的不同，真空镀膜是在高度真空的“纯净实验室”里，通过能量场让…
日期：2025-11-27
今天，我结合 10 年磁控溅射工艺调试经验，带您深入真空室，揭秘给磁控溅射 “踩油门” 的实战诀窍。这些方法已在汉嵙新材、三峡新材等企业的生产线中验证，可直接落地应用。氩离子能量提升 30% 以上，单次轰击可溅射出更多靶材原子；等离子体密度翻倍，相当于 “炮弹工厂” 全速运…
日期：2025-11-26
热蒸发镀膜是物理气相沉积技术中最基础、应用最广泛的一种。其核心原理是在高真空环境下，通过加热使镀膜材料蒸发或升华，产生蒸气粒子，这些粒子在真空腔体中直线运动，最终沉积在基片表面，凝结形成固态薄膜。一、 核心技术原理与过程热蒸发技术的实现依赖于三个基本物理过程和一…
日期：2025-11-21
平面磁控溅射靶是现代真空镀膜设备的核心部件，以其结构相对简单、加工便捷、性能稳定而成为工业界与科研领域应用最广泛的溅射源。它通过引入磁场巧妙地控制带电粒子的运动，从根本上提升了溅射效率。根据靶材的平面形状，主要可分为圆形平面磁控溅射靶和矩形平面磁控溅射靶。两者在…
日期：2025-11-20
普通直流二极溅射是一种基础且重要的物理气相沉积技术，其核心原理是利用气体辉光放电产生的离子轰击靶材，实现薄膜沉积。该装置主要由真空镀膜室内的两个平行平面电极构成：阴极（靶材）：施加数千伏的直流负高压，装有直径为10-30cm的靶材。该电极必须具备冷却结构以防止靶材过热…
日期：2025-11-20
溅射镀膜的基本原理就是让具有足够高能量的粒子轰击固体靶表面使靶中的原子发射出来，沉积到基片上成膜。溅射镀膜有多种方式，其典型方式如表2-3 所示，表中列出了各种溅射镀膜的特点及原理图。从电极结构上可分为二极溅射、三极或四极溅射和磁控溅射。射频溅射适合于制备绝缘薄膜;…
日期：2025-11-20
溅射镀膜是一种利用离子轰击靶材，使靶材原子被溅射出来并沉积在基片上形成薄膜的工艺。其薄膜生长过程、影响因素以及沉积速率的控制是整个技术的核心。薄膜的生长是一个从原子尺度开始的动态过程，大致遵循以下四个阶段：1. 凝结与成核：被溅射出的靶材原子或分子到达基片表面后，…
日期：2025-11-20
当我们用扫描电镜观察纳米级的材料结构，当手机屏幕的导电膜实现精准透光，当生物医疗中的微型器件具备稳定性能 —— 这些微观世界里的 “材料奇迹”，背后都离不开一款关键设备的支撑：离子溅射仪。它以精准的物理作用，在微米甚至纳米尺度上 “雕琢” 材料表面，既是材料科学的 “…
日期：2025-06-11
在材料科学、微电子、光学镀膜等领域，高质量薄膜沉积技术是推动科研突破与产业升级的核心力量。小型磁控溅射仪凭借其精密控制、高效溅射和广泛适用性，成为科研机构及小规模生产用户的首选设备，为纳米技术、新能源、生物医学等领域提供了关键支撑。真空环境构建：通过机械泵与分子…
日期：2025-06-01
在材料表面处理领域，离子溅射仪确实凭借高精度、低温性圈粉不少，但作为天天跟设备打交道的 “老玩家”，微仪真空小编得跟大家掏掏心窝子 —— 实际操作中，这技术并非 “万能神药”，处理后可能埋下的几个缺点，往往会直接影响材料性能，甚至让前期的工艺投入打水漂。很多人选离子…
日期：2025-06-01
离子溅射仪本质是磁控溅射 PVD 技术的具象化设备，核心是通过 “磁场约束电子 + 离子轰击靶材” 的协同作用，实现基材表面的高精度镀膜。很多人觉得原理抽象，其实拆解成实际设备的运作步骤就很容易理解：首先，设备会将镀膜腔抽到 10⁻³-10⁻⁵Pa 的高真空环境 —— 这一步是为了减…
日期：2025-05-23
在电子信息、生物医疗、光学制造等领域的技术迭代中，材料表面性能的精准调控是关键突破点。从半导体芯片的电极镀膜，到扫描电镜样品的导电处理，再到生物医用器件的表面改性，这一系列高要求的表面处理工作，均依赖于离子溅射仪的技术支撑。作为材料表面工程领域的核心设备，离子溅…
日期：2025-05-23
客服1