近日，由深圳微仪真空技术有限公司作为主要发起和起草单位的《磁控溅射镀膜设备 核心性能参数测试方法》团体标准，已通过专家组评审并正式发布实施。这一举措，标志着国产高端镀膜设备长期依赖“经验参数”的现状正在被打破，为行业建立了统一、科学的性能评价标尺，对推动整个产业…
日期：2025-11-22
近日，微仪真空技术有限公司正式推向市场其全新研发的复合型真空镀膜系统。该系统的成功研制，标志着公司在高端PVD设备领域实现了从单一功能到集成化、智能化解决方案的关键跨越，旨在为解决精密工具、关键零部件与高端消费电子产品的表面强化难题，提供更优的国产技术装备。突破技…
日期：2025-11-22
热蒸发镀膜是物理气相沉积技术中最基础、应用最广泛的一种。其核心原理是在高真空环境下，通过加热使镀膜材料蒸发或升华，产生蒸气粒子，这些粒子在真空腔体中直线运动，最终沉积在基片表面，凝结形成固态薄膜。一、 核心技术原理与过程热蒸发技术的实现依赖于三个基本物理过程和一…
日期：2025-11-21
平面磁控溅射靶是现代真空镀膜设备的核心部件，以其结构相对简单、加工便捷、性能稳定而成为工业界与科研领域应用最广泛的溅射源。它通过引入磁场巧妙地控制带电粒子的运动，从根本上提升了溅射效率。根据靶材的平面形状，主要可分为圆形平面磁控溅射靶和矩形平面磁控溅射靶。两者在…
日期：2025-11-20
普通直流二极溅射是一种基础且重要的物理气相沉积技术，其核心原理是利用气体辉光放电产生的离子轰击靶材，实现薄膜沉积。该装置主要由真空镀膜室内的两个平行平面电极构成：阴极（靶材）：施加数千伏的直流负高压，装有直径为10-30cm的靶材。该电极必须具备冷却结构以防止靶材过热…
日期：2025-11-20
溅射镀膜的基本原理就是让具有足够高能量的粒子轰击固体靶表面使靶中的原子发射出来，沉积到基片上成膜。溅射镀膜有多种方式，其典型方式如表2-3 所示，表中列出了各种溅射镀膜的特点及原理图。从电极结构上可分为二极溅射、三极或四极溅射和磁控溅射。射频溅射适合于制备绝缘薄膜;…
日期：2025-11-20
溅射镀膜是一种利用离子轰击靶材，使靶材原子被溅射出来并沉积在基片上形成薄膜的工艺。其薄膜生长过程、影响因素以及沉积速率的控制是整个技术的核心。薄膜的生长是一个从原子尺度开始的动态过程，大致遵循以下四个阶段：1. 凝结与成核：被溅射出的靶材原子或分子到达基片表面后，…
日期：2025-11-20如果说华为手机、特斯拉电池里的磁控溅射是 “高端制造的标配”，那在汽车后市场、智能家居、新能源光伏这些日常场景中，这项技术更像是 “品质升级的隐形推手”。从能赢火箭发射观礼资格的车膜，到能变 “星空影院” 的汽车天幕，再到效率飙升的太阳能板，2024-2025 年多个消费热点…
日期：2025-11-15
提到磁控溅射，多数人会觉得是 “实验室里的冷门技术”。但实际上，这项通过 “磁场引导离子轰击靶材” 形成薄膜的工艺，早已渗透到我们身边的明星产品中 —— 从华为折叠屏的耐磨屏幕，到特斯拉的续航电池，再到苹果的抗眩光摄像头，每一件品质标杆的背后，都藏着磁控溅射的 “镀膜…
日期：2025-11-15
提到半导体行业，“国产替代”“先进制程”“芯片自主” 是大众最熟悉的关键词。而作为芯片制造的核心环节 —— 薄膜沉积，最近因磁控溅射技术的系列突破引发关注：从 7 纳米制程设备的核心部件国产化，到超导芯片的关键膜层突破，这项技术正悄悄破解多个 “卡脖子” 难题，背后还关…
日期：2025-11-15
在新能源电池核心部件 —— 复合集流体领域，磁控溅射技术实现里程碑式突破。深圳市汉嵙新材料首创磁控溅射一步干法工艺，彻底解决了传统 “磁控溅射 + 水电镀” 两步法存在的基材损伤、良率低、环保隐患等问题。该技术搭配全球首台 32 圆柱靶双面卷绕式磁控溅射设备，通过 40KW 大…
日期：2025-11-15
近日，深圳微仪真空技术有限公司（以下简称 “微仪真空”）接连迎来两项重要进展：与华南高校材料学院共建 “真空镀膜联合实验室” 正式揭牌，同时启动面向高校的 “真空技术人才培育计划”，以 “产研协同 + 人才储备” 双举措，深化与科研领域的联动合作。在联合实验室揭牌仪式上…
日期：2025-11-13
近日，深圳微仪真空技术有限公司（以下简称 “微仪真空”）在技术研发、团队建设与服务体系三大板块同步发力，通过工艺优化、人才扩容与服务细化，进一步提升对科研领域的支持能力，为真空镀膜相关研究提供更高效、更贴合需求的技术保障。针对科研实验室常见的 “空间有限、操作复杂…
日期：2025-11-13
当我们用扫描电镜观察纳米级的材料结构，当手机屏幕的导电膜实现精准透光，当生物医疗中的微型器件具备稳定性能 —— 这些微观世界里的 “材料奇迹”，背后都离不开一款关键设备的支撑：离子溅射仪。它以精准的物理作用，在微米甚至纳米尺度上 “雕琢” 材料表面，既是材料科学的 “…
日期：2025-06-11
在材料科学、微电子、光学镀膜等领域，高质量薄膜沉积技术是推动科研突破与产业升级的核心力量。小型磁控溅射仪凭借其精密控制、高效溅射和广泛适用性，成为科研机构及小规模生产用户的首选设备，为纳米技术、新能源、生物医学等领域提供了关键支撑。真空环境构建：通过机械泵与分子…
日期：2025-06-01
在材料表面处理领域，离子溅射仪确实凭借高精度、低温性圈粉不少，但作为天天跟设备打交道的 “老玩家”，微仪真空小编得跟大家掏掏心窝子 —— 实际操作中，这技术并非 “万能神药”，处理后可能埋下的几个缺点，往往会直接影响材料性能，甚至让前期的工艺投入打水漂。很多人选离子…
日期：2025-06-01
离子溅射仪本质是磁控溅射 PVD 技术的具象化设备，核心是通过 “磁场约束电子 + 离子轰击靶材” 的协同作用，实现基材表面的高精度镀膜。很多人觉得原理抽象，其实拆解成实际设备的运作步骤就很容易理解：首先，设备会将镀膜腔抽到 10⁻³-10⁻⁵Pa 的高真空环境 —— 这一步是为了减…
日期：2025-05-23
在电子信息、生物医疗、光学制造等领域的技术迭代中，材料表面性能的精准调控是关键突破点。从半导体芯片的电极镀膜，到扫描电镜样品的导电处理，再到生物医用器件的表面改性，这一系列高要求的表面处理工作，均依赖于离子溅射仪的技术支撑。作为材料表面工程领域的核心设备，离子溅…
日期：2025-05-23在科技飞速发展的当下，磁控溅射镀膜与真空镀膜技术广泛应用于电子、光学、新能源等诸多领域，为各行业的产品性能提升与创新提供了有力支撑。然而，随着行业的蓬勃发展，与之相关的政策法规也日益完善，旨在规范行业秩序、保障产品质量、推动绿色发展。以下将为您详细梳理该行业涉及…
日期：2025-05-06
在材料表面处理领域，磁控溅射镀膜设备早已不是 “通用款” 能满足所有需求 —— 半导体芯片需要 “原子级精度” 的薄膜控制，光伏组件追求 “高产能” 的溅射效率，建筑玻璃则看重 “大面积均匀性” 的镀膜能力。对于定制厂家而言，个性化服务不是简单的参数调整，而是从需求挖掘到…
日期：2025-05-06
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