在材料科学、微电子、生物医学等领域，表面与薄膜的微观结构是决定其性能的核心因素 —— 从半导体器件的薄膜界面缺陷，到生物材料的表面亲疏水性，再到涂层的耐磨 / 耐腐蚀特性，都与其组织形貌、晶体结构直接相关。本文将从技术原理、细节特点、应用场景等维度，系统阐述表面与薄…
日期：2025-12-12
离子镀膜的工艺设计以 “性能导向” 为核心，通过精准控制多维度参数，实现三大核心目标：一是薄膜成分精准匹配，化学计量比偏差控制在 ±2% 以内，确保化合物薄膜的物相纯度；二是组织结构可控，获得晶粒尺寸 10~100nm、致密度 > 98% 的致密化结构；三是膜 / 基结合力优异，结合强度…
日期：2025-12-11
离子镀膜作为真空镀膜领域的关键技术之一，凭借等离子体调控与离子轰击效应的协同作用，实现了薄膜性能的突破性提升。其核心优势在于通过精准控制成膜过程中的能量传递、粒子反应与微观结构演化，制备出高硬度、高附着性、高稳定性的功能薄膜，广泛应用于刀具、模具、航空航天构件等…
日期：2025-12-11
以电阻加热式蒸发源为核心，利用基体与蒸发源两极间的辉光放电产生离子：Ø先将真空室抽至 10^{-4}\text{Pa} ，充入工作气体（Ar）使气压达到 0.5\sim5\text{Pa} ；Ø基体施加 1\sim5\text{kV} 负偏压，蒸发源与真空室接地，放电功率控制在 1.5\sim5\text{kW} ；Ø辉光放电在基体…
日期：2025-12-10
1. 技术分类：Ø按沉积粒子状态分两类：①低能离子（直接沉积成膜，又称 “低压沉积”）；②高能离子（先形成气体再反应沉积，能量高、成膜致密）。Ø离子源类型：单源、双源（如双离子束，一束溅射靶材、一束辅助沉积）、多源，可灵活调控离子种类与能量。2. 核心优势：Ø对靶材和基体…
日期：2025-12-10
在薄膜沉积技术的家族中，离子束溅射以其 “精准可控” 的特性，成为当前半导体、航天、量子科技等高端领域的核心工艺之一。它不仅解决了传统溅射的痛点，更在前沿产业中扮演着 “原子级工匠” 的角色。离子束溅射是一种通过约束离子束轰击靶材、实现原子级沉积的薄膜制备技术，也被…
日期：2025-12-09
反应磁控溅射的基础是磁控溅射的E×B 电子漂移效应：靶面垂直电场与平行磁场形成的 “电子捕集阱”，让二次电子沿摆线轨迹运动，大幅提升氩气电离率，实现高速、低温的金属原子溅射。而反应磁控的独特性在于向真空腔通入 O₂、N₂、CH₄等活性气体，其沉积过程存在两种典型模式：1. …
日期：2025-12-08
传统直流溅射技术面对 SiO₂、氮化铝等绝缘材料时，会陷入一个致命困境：正离子轰击绝缘靶材时，电荷无法导走，靶面电位持续上升，最终 “挡住” 后续离子的轰击，让镀膜戛然而止。而射频溅射的巧妙之处，在于用高频交变电场打破了这个僵局：它通过 13.56MHz（或更高）的射频电源，…
日期：2025-12-08
您的产品，是否也困于“颜色单调”、“质感平平”或“轻易刮花”的难题？在颜值即正义的市场里，答案就藏在那一层微米级的薄膜中。装饰性真空镀膜，正是这样一门融合了尖端物理与美学设计的表面处理艺术。与许多人想象的不同，真空镀膜是在高度真空的“纯净实验室”里，通过能量场让…
日期：2025-11-27
在高端真空镀膜工艺中，超过半数的输入能量会转化为热能，腔体及内部组件的高温升已成为制约薄膜质量、生产效率和设备寿命的瓶颈。凭借深厚的工程经验，通过仿形流道设计、智能温控策略与模块化冷却单元的深度融合，为您提供全方位的高效热管理解决方案，确保您的镀膜设备在任何严苛…
日期：2025-11-27在真空镀膜过程中，基片温度是决定薄膜微观结构和宏观性能的核心工艺参数之一。例如，在光学薄膜沉积中，温度影响薄膜的折射率和散射损耗；在工具涂层中，温度决定了涂层的附着强度和耐磨性。传统的镀膜机通常采用简单的温控仪表配合接触式加热器，控温方式粗放，导致不同批次产品性…
日期：2025-11-27
真空镀膜技术是在真空环境下，通过物理或化学方法使材料气化或电离，并在基片表面沉积形成特定功能薄膜的过程。传统的镀膜机控制系统多采用继电器和仪表控制，存在接线复杂、灵活性差、故障率高、工艺重复性不佳等缺点。现代镀膜机则集成了复杂的真空系统、传动系统、电源系统及多种…
日期：2025-11-27
今天，我结合 10 年磁控溅射工艺调试经验，带您深入真空室，揭秘给磁控溅射 “踩油门” 的实战诀窍。这些方法已在汉嵙新材、三峡新材等企业的生产线中验证，可直接落地应用。氩离子能量提升 30% 以上，单次轰击可溅射出更多靶材原子；等离子体密度翻倍，相当于 “炮弹工厂” 全速运…
日期：2025-11-26
新闻背景： 低空经济被写入国家战略，电动垂直起降飞行器（eVTOL）作为核心载体，研发与适航进程正在加速。然而，eVTOL对重量极为敏感，每减重一公斤都意味着更长的续航；同时，其常年在高空潮湿、盐雾、紫外线环境中运行，对材料的耐腐蚀与耐老化性能提出了极致要求。 在这一“轻…
日期：2025-11-22
散热成AI算力瓶颈，晶圆级封装催生镀膜技术新战场 新闻背景： 随着英伟达Blackwell、AMD MI300X等新一代AI芯片发布，算力狂飙的同时，其热功耗已突破千瓦级大关。传统的风冷散热逼近物理极限，液冷方案成本高昂且实施复杂。如何为这些“热怪兽”高效降温，已成为制约算力发展的核心…
日期：2025-11-22
上周末，深圳微仪真空技术有限公司内部首届“工匠杯”技术与技能大赛在其深圳总部生产基地圆满落幕。本次大赛并非传统的知识竞赛，而是一场真枪实弹的“技能大比武”，旨在激发一线工程师与技师的创新活力，弘扬工匠精神，为公司打造高端镀膜装备的“隐形冠军”团队夯实人才基础。赛…
日期：2025-11-22
近日，深圳微仪真空技术有限公司宣布与国内碳化硅衬底领域的领军企业“晶焱科技”达成战略合作。根据协议，微仪真空将为其新一代碳化硅功率器件研发产线，提供多台用于金属电极沉积的高真空磁控溅射镀膜系统。此次合作标志着国产高端镀膜装备在半导体前沿领域的应用验证取得重大突破…
日期：2025-11-22
>当所有人都在关注屏幕能否折叠时，一场关乎设备耐用性、美观度和信号表现的“隐形竞赛”，正在纳米级别的薄膜世界中激烈上演。如果问最近消费电子领域什么最火？无疑是各大品牌密集发布的新款折叠屏手机与AI手机。然而，在镁光灯聚焦于铰链技术和AI大模型之时，一个关键的支撑技术…
日期：2025-11-22
深圳微仪真空技术有限公司近日宣布，其基于工业互联网技术的“数字孪生”实验室已初步建成并投入试运行。这一创新举措旨在通过数字化与智能化手段，实现对分布在全球的磁控溅射仪、真空蒸镀设备等产品的全生命周期管理，率先在行业内开启预测性维护新模式。让每一台设备在云端“镜像…
日期：2025-11-22
近日，深圳微仪真空技术有限公司正式启动名为“工艺灯塔”的客户赋能计划。该计划标志着公司从单一的真空镀膜设备供应商，向深度整合的“工艺解决方案伙伴”战略转型的又一关键步伐。破解“有设备，难用好”的行业困境拥有高性能的磁控溅射或真空蒸镀设备，只是获得理想薄膜的第一步…
日期：2025-11-22
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